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        鍍鉻添加劑

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        硬鉻添加劑


        一、工藝特點

        ● 較新一代不含氟、無稀土鍍鉻催化劑,電流效率可達23~27% 無陰極低電流區腐蝕,無陽極腐蝕。

        ● 電流密度范圍寬、沉積速度快,從而提高了工作效率,節約能源,降低成本。

        ● 覆蓋能力強,鍍層結晶細致、均勻、光亮。

        ● 鍍層硬度高,HV 可達1000以上,能產生微裂紋,微裂紋數可控制在400~1000條/厘米。

        ● 鍍液穩定,易操作、維護。


        二、工藝規范

        范圍

        較佳

        鉻酐(CrO3)

        180~300g/L

        250g/L

        硫酸(H2SO4)

        2.0~3.5g/L

        2.7g/L

        OH-10

        15-25 mL

        20mL/L

        陰極電流密度

        30~80A/dm2

        40~60A/dm2

        溫度

        55~65℃

        60℃

        陰陽極面積比

        1:2~1:3


        三、鍍液配制方法

        將鍍槽清洗干凈,入鍍液總體積2/3的去離子水或蒸餾水,加熱至50~60℃;邊攪拌,邊加入計算量的鉻酐及硫酸。加入計算量的OH-10添加劑,并加水至所需的體積,充分攪拌均勻,分析調整鉻酐、硫酸至工藝含量。電解數小時后,即可試鍍。


        四、說明

        使用OH-10添加劑鍍鉻前處理或鍍后處理與普通鍍鉻相同,但可大大減少磨拋時間。陽極可使用鉛錫合金(含錫6~8%),鉛銻合金,鉛陽極也可。鍍槽建議使用鈦槽或襯塑之鐵槽,所襯塑料不被鍍鉻液氧化或腐蝕。若使用周期換向電源,電流效率可進一步提高。


        五、鍍液維護

        定期分析鍍液中硫酸、鉻酐及三價鉻的含量,并調整至工藝范圍內。


        六、普通鍍液的轉化

        只要不含氟及稀土添加劑的鍍鉻可直接轉化為OH-10快速鍍鉻液,步驟如下:

        分析鍍液中CrO3、H2SO4、Cr3+的含量,并調整至工藝范圍內Cr3+的含量不能超過6克/升,若大于6克/升,用小電流電解,使之降低;Fe3+、Cu2+不超過10克/升。按15-20mL/L加入OH-10添加劑,并攪拌均勻。 電解,加熱至50-60℃,試鍍。

        工藝規范麻煩給做成這樣的這種表格方式。

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