硬鉻添加劑

一、工藝特點

● 較新一代不含氟、無稀土鍍鉻催化劑，電流效率可達23～27％ 無陰極低電流區腐蝕，無陽極腐蝕。

● 電流密度范圍寬、沉積速度快，從而提高了工作效率，節約能源，降低成本。

● 覆蓋能力強，鍍層結晶細致、均勻、光亮。

● 鍍層硬度高，HV 可達1000以上，能產生微裂紋，微裂紋數可控制在400～1000條/厘米。

● 鍍液穩定，易操作、維護。

二、工藝規范

范圍

較佳

鉻酐（CrO3）

180～300g/L

250g/L

硫酸（H2SO4）

2.0～3.5g/L

2.7g/L

OH-10

15-25 mL

20mL/L

陰極電流密度

30～80A/dm2

40～60A/dm2

溫度

55～65℃

60℃

陰陽極面積比

1:2～1:3

三、鍍液配制方法

將鍍槽清洗干凈，入鍍液總體積2/3的去離子水或蒸餾水，加熱至50～60℃；邊攪拌，邊加入計算量的鉻酐及硫酸。加入計算量的OH-10添加劑，并加水至所需的體積，充分攪拌均勻，分析調整鉻酐、硫酸至工藝含量。電解數小時后，即可試鍍。

四、說明

使用OH-10添加劑鍍鉻前處理或鍍后處理與普通鍍鉻相同，但可大大減少磨拋時間。陽極可使用鉛錫合金（含錫6～8%）,鉛銻合金，鉛陽極也可。鍍槽建議使用鈦槽或襯塑之鐵槽，所襯塑料不被鍍鉻液氧化或腐蝕。若使用周期換向電源，電流效率可進一步提高。

五、鍍液維護

定期分析鍍液中硫酸、鉻酐及三價鉻的含量，并調整至工藝范圍內。

六、普通鍍液的轉化

只要不含氟及稀土添加劑的鍍鉻可直接轉化為OH-10快速鍍鉻液，步驟如下：

分析鍍液中CrO3、H2SO4、Cr3＋的含量，并調整至工藝范圍內Cr3＋的含量不能超過6克/升，若大于6克/升，用小電流電解，使之降低；Fe3＋、Cu2＋不超過10克/升。按15-20mL/L加入OH-10添加劑，并攪拌均勻。 電解，加熱至50－60℃，試鍍。

工藝規范麻煩給做成這樣的這種表格方式。